第380章 光刻机专项完成 (第1/3页)
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周博士,部长转过头,看向身边的周振,虽然林院士刚才给我讲了硬件上的力大砖飞,但我这心里还是不踏实。咱们用193纳米波长的光源,硬要去完成等效7纳米的性能,这真的走得通吗?
他指了指大屏幕上那张密密麻麻的芯片版图。
部长,如果是单次曝光,当然不可能。光的衍射极限就在那里,这是物理铁律。周振的声音沉稳,带着一种技术人员特有的严谨,所以,我们必须采用多重曝光技术。
他在控制台上调出一张示意图。
打个比方,如果我们手里只有一支粗画笔,却要画出比笔锋还要细的线条,怎么办?
部长微微皱眉:怎么办?
我们可以画两次,甚至四次。周振的手指在空中比划着,利用线条之间的空隙,通过多次错位叠加,把不需要的部分切掉,或者把需要的线条凑出来。我们要做的等效7纳米工艺,需要用到自对准四重图形化技术。
四次……部长喃喃自语。
是的,四次。周振深吸一口气,这就好比是在一粒米上雕刻清明上河图,还要分四次下刀,每一次下刀的位置误差不能超过0.5纳米。只要有一次歪了,整张晶圆就废了。
他转身指向身后那群正在疯狂敲击键盘的年轻工程师。
外面的那些大家伙,那座楼一样的光刻机,是我们的大炮。它口径大、射程远、底盘稳。但是,要想把炮弹精准地打进蚊子的翅膀里,光有大炮是不行的。
周振的眼中闪过一丝傲然:我们eda团队,还有这套计算光刻算法,就是这门大炮的瞄准镜。
在asml的路径里,他们依赖的是蔡司镜头的极致物理精度。而我们,依赖的是数学,是算法,是算力!
这时候,林星石开始进行最后的准备。
各单位报告情况。林星石的声音不大,通过麦克风清晰地传遍了每一个角落。
光源系统就绪!液冷循环温差控制在0.01度以内!
物镜系统稳定!地质微震监测数据归零!
双工件台自检完成!同步误差补偿模型已加载!
星火云算力通道全开!分配算力:800pflops!
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